湖南次氯酸鈉發(fā)生器/電解鹽制氯消毒設(shè)備在水廠、農(nóng)村飲水、污水廠的消毒措施上使用次氯酸鈉發(fā)生器的越來越多，那么次氯酸鈉發(fā)生器究竟好在哪里呢？次氯酸鈉由電解食鹽法制備。我司的次氯酸鈉發(fā)生器由若干個(gè)系統(tǒng)組成，包括軟水制備、溶鹽系統(tǒng)、鹽水精制系統(tǒng)、稀鹽水配置系統(tǒng)、次氯酸鈉發(fā)生、次氯酸鈉貯存系統(tǒng)、排氫系統(tǒng)、酸洗系統(tǒng)、次氯酸鈉投加及配電控制系統(tǒng)。次氯酸鈉發(fā)生器體系的一切單元由“智能控制中心PLC”集中控制，控制柜帶各功用的指示與操作按鍵，用戶能夠通過這些指示了解體系當(dāng)時(shí)的運(yùn)轉(zhuǎn)狀況，并通過按鍵來完成各功用，體系本身帶有主動(dòng)檢測與自維護(hù)功用，次氯酸鈉發(fā)生器全主動(dòng)運(yùn)轉(zhuǎn)，不需人工看守，運(yùn)轉(zhuǎn)安穩(wěn)、牢靠，操作簡略、便利、安全。

和創(chuàng)智云復(fù)結(jié)構(gòu)透明電解槽——率、低電耗：
和創(chuàng)智云電解槽的采用透明結(jié)構(gòu)，應(yīng)用和創(chuàng)智云《便于觀察的電解裝置》（ZL201620971203.X）進(jìn)行設(shè)計(jì)生產(chǎn)；
該電解槽的優(yōu)勢：有利于設(shè)備運(yùn)行過程中對(duì)內(nèi)部電解過程的監(jiān)控
　　有利于判斷酸洗時(shí)機(jī)，及時(shí)進(jìn)行酸洗，系統(tǒng)持續(xù)、低成本運(yùn)行
　　電選用純鈦?zhàn)鳛榛?MMO特殊技術(shù)涂層，析氯電位1.12V（市場常見為≥1.13V），電耗更低；
　　電使用復(fù)式結(jié)構(gòu)，一個(gè)電解槽內(nèi)設(shè)置數(shù)個(gè)電解單元，通過電解液直接串聯(lián)，減少電間的連接母線，節(jié)省接觸電耗 

湖南次氯酸鈉發(fā)生器/電解鹽制氯消毒設(shè)備次氯酸鈉發(fā)生器性能特點(diǎn)
1、原材料安全、易獲取
以食用鹽作為原材料，采購?fù)緩胶唵?、運(yùn)輸安全便捷。
2、操作方便、可靠性高系統(tǒng)的所有單元全部由可編程控制器PLC 集中控制，配套觸摸屏LCD。用戶可以通過LCD 了解系統(tǒng)當(dāng)前的運(yùn)行狀態(tài)，并通過觸摸屏來實(shí)現(xiàn)各種功能控制。系統(tǒng)自身帶有自動(dòng)檢測與自保護(hù)功能，機(jī)器實(shí)現(xiàn)*自動(dòng)化，運(yùn)行穩(wěn)定、可靠，操作簡單、安全。
3、生產(chǎn)工藝簡單、全自動(dòng)化生產(chǎn)
本發(fā)生器采用稀鹽水作為電解原材料，設(shè)備采用220VAC（380VAC）作為電源提供，而運(yùn)行時(shí)采用10～12V 的直流電解電源，設(shè)備運(yùn)行安全，使用壽命長。
4、產(chǎn)出率高、品質(zhì)純凈
使用新型電解電，電解效率高；使用稀鹽水作為生產(chǎn)原材料，鹽水經(jīng)過過濾后進(jìn)入電解槽，經(jīng)電電解后就產(chǎn)生次氯酸鈉溶液，成本低廉、品質(zhì)純凈，而且實(shí)現(xiàn)了現(xiàn)制現(xiàn)用，有利于安全生產(chǎn)。
5、自動(dòng)投加系統(tǒng)
采用防腐型計(jì)量泵作為次氯酸鈉溶液的投加單元，發(fā)生器系統(tǒng)自動(dòng)檢測投加條件。當(dāng)滿足投加要求時(shí)，系統(tǒng)自動(dòng)啟動(dòng)投加泵計(jì)量投加，達(dá)到投氯的精確和穩(wěn)定，合格水質(zhì)。

大型次氯酸鈉發(fā)生器使用注意問題：
　　建議將背壓閥的安裝點(diǎn)放到遠(yuǎn)端，接近投加點(diǎn)位置。同時(shí)，計(jì)量泵出口管路的管徑不可過大，依據(jù)實(shí)際投加量確定合適的管徑。如此做的好處有以下幾點(diǎn):
　?、?管道充滿并保持一定壓力， 可以減少次氯酸鈉的分解量，減少管道內(nèi)積氣。
　?、?合適的管徑可以提高液體在管道內(nèi)的流速，也可以將液體中混雜的氣泡及時(shí)帶走，不要停留在管道內(nèi)形成氣阻。
　?、?合適的管徑可以提高液體在管道內(nèi)的流速，形成較高流速， 對(duì)管道內(nèi)的結(jié)垢產(chǎn)生沖刷， 延緩結(jié)垢的增加。
　?、?合適的管徑便于增加保溫層， 可以降低NaOH 的晶體析出和結(jié)垢增加。